特許
J-GLOBAL ID：200903037540296886
位相シフトマスクの欠陥修正方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高田 守 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-307425
公開番号（公開出願番号）：特開平5-142757
出願日： 1991年11月22日
公開日（公表日）： 1993年06月11日
要約：
【要約】【目的】 位相シフトマスクの欠陥を安価に修正する方法を提供する。【構成】 位相シフトマスクの凹型の欠陥5にレジスト7を滴下して埋め込み、次に、これをベークすることによりシフタ4と屈折率を合わせ、通常のO2 異方性プラズマエッチングによりシフタ4と同一平面になるまでエッチングを行い、位相シフトマスクの欠陥を修正することを特徴としている。
請求項（抜粋）：
石英ガラス基板上に光の位相差を生じさせるシフタを配置し、光学像のコントラストを増強する露光用の位相シフトマスクの凹型の欠陥の欠陥修正方法において、前記シフタに存在する凹型の欠陥部分に修正用材料を滴下してこれを埋め込み、前記埋め込まれた修正用材料の屈折率が前記シフタの屈折率と同じになるようにベークした後、前記修正用材料を前記シフタの平面と同一平面になるまでエッチバックすることを特徴とする位相シフトマスクの欠陥修正方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 301 P
, H01L 21/30 301 W
