特許
J-GLOBAL ID：200903037542326464
マスクおよびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (3件)：
金田 暢之
, 伊藤 克博
, 石橋 政幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-213775
公開番号（公開出願番号）：特開2004-054092
出願日： 2002年07月23日
公開日（公表日）： 2004年02月19日
要約：
【課題】露光装置起因で生じる寸法ばらつき(予測が可能であるため従来から補正可能)とマスク製造誤差起因の寸法ばらつき(毎回ランダムに生じる製造誤差起因であるため従来は補正不可能)を補正することが可能なマスクおよびその製造方法を提供する。【解決手段】部分的に透過率あるいは反射率の調整を行い、結像面上での転写パターンの寸法均一性を向上させたことを特徴とする透過型あるいは反射型マスク、および、マスク上のパターンを結像面上に転写し、その寸法分布を測定した後、分布の傾向がうち消されるようにマスクの透過率を調整することを特徴とするマスク製造方法を提供する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
透明基板上に遮光膜を成膜し、透明領域と遮光領域とからなるパターンが形成された投影露光用の透過型マスクにおいて、
所定の領域の透明領域を透過する光の強度を低下させ、結像面での転写パターンの寸法均一性を向上させたことを特徴とするマスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F1/08 A
, H01L21/30 502P
2H095BB02
, 2H095BB36
, 2H095BC11
, 2H095BC13
, 2H095BC28
, 2H095BD03
