特許
J-GLOBAL ID：200903037544720100
偏光素子、位相差素子およびそれらの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山本 秀策
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-324464
公開番号（公開出願番号）：特開平10-160933
出願日： 1996年12月04日
公開日（公表日）： 1998年06月19日
要約：
【要約】【課題】 偏光透過軸方向が異なる複数の偏光部材を有する偏光素子および遅相軸または進相軸方向が異なる複数の位相差部材を有する位相差素子を作製する。【解決手段】 偏光透過軸を所定の方向に向けて基材1上に配置した偏光フィルム2a、4aを、ダイサ3にて削ることにより、偏光透過軸が互いに異なる方向に向いた偏光部材2、4を形成する。また、遅相軸または進相軸を所定の方向に向けて基材1上に配置した位相差フィルム2a、4aを、ダイサ3にて削ることにより、遅相軸または進相軸が互いに異なる方向に向いた位相差部材2、4を形成する。
請求項（抜粋）：
偏光透過軸方向が異なる複数の偏光部材を有する偏光素子の製造方法であって、基材上に配置した偏光フィルムをダイサにて削って、偏光透過軸を1方向に向けた偏光部材を形成する工程と、該基材上に、既に形成された偏光部材とは異なる方向に偏光透過軸を向けて偏光フィルムを配置し、既に形成されている偏光部材上の偏光フィルム部分をダイサにて削って、既に形成された偏光部材とは異なる方向に偏光透過軸を向けた偏光部材を形成することを、1回または2回以上行う工程とを含む偏光素子の製造方法。
IPC (2件)：
G02B 5/30
, G02F 1/1335 510
G02B 5/30
, G02F 1/1335 510
