特許
J-GLOBAL ID:200903037553321197
3次元形状計測方法およびそのシステム
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
西川 惠清 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-359231
公開番号(公開出願番号):特開2002-162215
出願日: 2000年11月27日
公開日(公表日): 2002年06月07日
要約:
【要約】【課題】 コストおよび撮像時間を余計にかけることなく、撮像装置の解像度を損なわない3次元形状の計測、簡易な位相連結の処理および高速な計測を可能にする。【解決手段】 パターンH1の像を対象物に投影し、撮影とH1のシフトを繰り返して、明度の位相が一定量づつシフトした縞画像H2を複数取り込み、領域分類用画像を作成する。領域分類用画像は、明度の1周期における一方の半周期に属する画素に対応する画素には第1値が、他方のものには第2値が、上記シフトで明度が変化しない画素に対応する画素には第3値が割り当てられている。そして、領域分類用画像を用いて第1〜第3値の各画素が連続する領域の分類を行い、この分類結果に基づいて、縞の並設方向に沿って互いに隣接する第1値および第2値の連結領域の組分けをし、この組分け結果を利用して位相連結の処理を行い、この処理結果に応じて対象物の3次元形状の高さ情報を抽出する。
請求項(抜粋):
位相シフト法に基づく3次元形状計測方法であって、縞状で縞の並設方向に沿って明度が正弦波状に変化するパターンの像を対象物に投影し、前記対象物に投影されたパターンの像の撮影および前記パターンの一定量のシフトを繰り返して、前記明度の位相が一定量づつシフトした画像を少なくとも3種類取り込み、これらの画像から、この画像の複数の画素にそれぞれ対応する複数の画素を有し、これら複数の画素のうち、前記明度の1周期の一部に属する画素に対応する画素には第1値が割り当てられ、前記明度の1周期の残部に属する画素に対応する画素には第2値が割り当てられ、前記明度の位相のシフトで明度が変化しない画素に対応する画素には第3値が割り当てられてなる領域分類用画像を作成し、この領域分類用画像を用いて前記第1〜第3値の画素の各々が連続する領域の分類を行い、この分類結果に基づいて、前記第1値の画素が連続する第1領域および前記第2値の画素が連続する第2領域のうち、前記縞の並設方向に沿って互いに隣接する第1領域および第2領域の組分けをし、この組分け結果を利用して位相連結の処理を行い、この処理結果に応じて前記対象物の3次元形状の高さ情報を抽出することを特徴とする3次元形状計測方法。
IPC (2件):
FI (2件):
G01B 11/24 E
, G01B 11/24 K
Fターム (15件):
2F065AA53
, 2F065BB05
, 2F065DD06
, 2F065FF06
, 2F065GG15
, 2F065HH06
, 2F065JJ26
, 2F065LL25
, 2F065MM16
, 2F065QQ03
, 2F065QQ13
, 2F065QQ24
, 2F065QQ31
, 2F065UU05
, 2F065UU08
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