特許
J-GLOBAL ID：200903037560441858
溶銑の脱硫処理方法及び脱硫処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
森 哲也
, 内藤 嘉昭
, 崔 秀▲てつ▼
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-041309
公開番号（公開出願番号）：特開2004-250742
出願日： 2003年02月19日
公開日（公表日）： 2004年09月09日
要約：
【課題】溶銑を常に安定した高効率で脱硫処理することのできる溶銑の脱硫処理方法及び脱硫処理装置を提供する。【解決手段】インペラ式攪拌機13で溶銑12を攪拌している最中にレベル差検出装置15のマイクロ波距離計16,16から溶銑12の表面にマイクロ波を当てて攪拌機13の攪拌中心からそれぞれ距離の異なる溶銑表面の2地点間のレベル差(高低差)ΔLを検出する。レベル差検出装置15から出力された信号は制御装置18に供給され、この制御装置18の演算部19で溶銑12の攪拌流動速度が演算される。そして、制御装置18の回転速度制御部20では演算部19の演算結果に基づいてインペラ式攪拌機13の回転速度を制御し、また制御装置18のインペラ位置制御部22では演算部19の演算結果に基づいてインペラ式攪拌機13のインペラ位置を制御する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
容器に収容された溶銑を脱硫剤と共にインペラ式攪拌機により攪拌して前記溶銑を脱硫処理する方法であって、前記インペラ式攪拌機の攪拌中心からそれぞれ距離の異なる2地点の溶銑表面にマイクロ波を当てて前記2地点間のレベル差をレベル差検出手段で検出し、次いで前記レベル差検出手段で検出された前記2地点間のレベル差から前記溶銑の攪拌流動速度を演算し、その演算結果に基づいて前記インペラ式攪拌機の回転速度および/又はインペラ位置を制御して前記溶銑を脱硫処理することを特徴とする溶銑の脱硫処理方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (3件)：
4K014AA02
, 4K014AB00
, 4K014AC08
