特許

J-GLOBAL ID：200903037564220236

鉛含有ペロブスカイト構造複合酸化物強誘電体薄膜製造用スパッタリングターゲット材およびその製法

発明者： 大内 幸弘 ,  高橋 昭雄 ,  納田 文男 ,  杉原 忠 ,  武下 拓夫
出願人/特許権者： 三菱マテリアル株式会社
代理人 (1件)： 広瀬 章一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-148857
公開番号（公開出願番号）：特開平5-320894
出願日： 1992年05月15日
公開日（公表日）： 1993年12月07日
要約：

【要約】【目的】 優れた鉛含有ペロブスカイト構造複合酸化物強誘電体薄膜製造用スパッタリングターゲット材およびその製法の提供【構成】 原料化合物のアルカリ金属不純物濃度を1ppm以下に減少させる

請求項（抜粋）：

そのアルカリ金属含有量の合計が2ppm以下のPb1-xLax(ZryTi1-y)1-x/4O3(式中x、yはOまたは1より小さい小数)で表わされる鉛含有ペロブスカイト構造複合酸化物の、構成粒子が平均粒径2μm以下の単位粒子からなる焼結体である高強度かつ高純度鉛含有ペロブスカイト強誘電体薄膜製造用スパッタリングターゲット材。

IPC (4件)：

C23C 14/34 ,  H01B 3/12 301 ,  H01G 4/06 102 ,  H01G 7/06

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭61-053119
  
• 特開昭62-297463