特許
J-GLOBAL ID：200903037565244120
荷電ビームを用いたパタン寸法測定方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
秋田 収喜
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-221760
公開番号（公開出願番号）：特開平5-060540
出願日： 1991年09月02日
公開日（公表日）： 1993年03月09日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】 荷電ビームを用いたパタン寸法測定方法において、S/N比の低下、焦点ずれにより測定精度が低下することを防ぐこと。また、測定経験のない新しい試料を測定する場合に、波形解析条件の決定を効率的に行うこと。【構成】 取り込んだ二次電子波形の波形解析のパラメータを決定し、同一パタンの二次電子波形を複数(10程度)取り込んで記憶し、平滑化のパラメータを変化させながら記憶させた波形に順次平滑化とエッジ検出を行い、正確なパタンエッジの位置を検出できる平滑化のパラメータ、パタンエッジ検出パラメータの範囲を決定する。次に、焦点距離を変えて取得した複数の二次電子波形(10程度)を記憶し、パタン寸法を算出するためのスライスレベルを変えながら、記憶させた波形に順次測定を実施し、測定した寸法のばらつきが最小になるようなスライスレベルを決定し、波形解析条件の最適化を行う。
請求項（抜粋）：
荷電ビームを用いたパタン寸法測定方法において、同一パタンの信号波形を複数回取り込み、波形のノイズを除去する平滑化パラメータ及びパタン位置を検出するパタン検出パラメータを順次変化させながら、各信号波形のパタンの左右のエッジ位置を検出し、各波形間のパタン位置のばらつきが小さく、かつ前記パラメータの変動に対して前記エッジ位置の変化が最小になるように前記パラメータの組み合わせを決定し、その後、焦点距離を順次変化させて同一パタンの信号波形取得を繰り返し行って記憶し、寸法測定用の波形解析パラメータを変化させて、前記記憶波形に対して寸法測定した結果から、寸法ばらつきが最小になるパラメータを決定することを特徴とするパタン寸法測定方法。
IPC (2件)：
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