マルチ-シングルウェハ処理装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：山川政樹 , 山川茂樹
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-531473
公開番号（公開出願番号）：特表2008-513980
出願日： 2005年09月13日
公開日（公表日）： 2008年05月01日
要約：

各々内部における半独立ALDと/またはCVD被膜形成(成膜)用に構成された複数の別個のシングルウェハ処理リアクタを有する1以上のウェハ処理モジュー*1ルと;該各ウェハ処理モジュールにウェハを供給すると共に該各ウェハ処理モジュールからウェハを受け取るよう構成されたロボット式中央ウェハハンドラと;ローディング/アンローディング・ポートと該ローディング/アンローディング・ポートを該ロボット式中央ウェハハンドラに結合するミニ環境を備えるシングルウェハ・ローディング/アンローディング機構と;を備えたウェハ処理装置。該ウェハ処理リアクタは、(I)1座標軸が、該シングルウェハ処理リアクタがそれぞれ属する該ウェハ処理モジュールの中の少なくとも1つのモジュールのウェハ装入面と平行なデカルト座標系の座標軸に沿って配置する、あるいは(II)該座標軸により定まる象限内に配置することが可能である。各処理モジュールは、最大4つのシングルウェハ処理リアクタを各々独立のガス分配モジュールと共に備えることができる。

請求項（抜粋）：

1以上のウェハ処理モジュールであって、各々(i)内部における半独立ALDおよび/またはCVD成膜用に構成された複数の別個のシングルウェハ処理リアクタ、および(ii)該各ウェハ処理モジュールのシングルウェハ処理リアクタにウェハを供給すると共にそこからからウェハを取り出すよう構成されたウェハ・ピックアンドプレース割り出し器機構を有するウェハ処理モジュールと、該各ウェハ処理モジュールにウェハを供給すると共にそこからウェハを受け取るよう構成されたロボット式中央ウェハハンドラと、を備えたウェハ処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/677 , H01L 21/205 , C23C 16/44

FI (3件)：

H01L21/68 A , H01L21/205 , C23C16/44 F

Fターム (36件)：

4K030CA04 , 4K030CA12 , 4K030GA04 , 4K030HA01 , 4K030LA15 , 5F031CA02 , 5F031FA01 , 5F031FA07 , 5F031FA09 , 5F031FA11 , 5F031FA12 , 5F031FA15 , 5F031GA01 , 5F031GA03 , 5F031GA42 , 5F031GA43 , 5F031GA47 , 5F031GA48 , 5F031GA49 , 5F031GA55 , 5F031HA33 , 5F031HA42 , 5F031HA58 , 5F031MA04 , 5F031MA09 , 5F031MA28 , 5F031MA29 , 5F031MA32 , 5F031NA05 , 5F045AA08 , 5F045AA15 , 5F045AF01 , 5F045BB10 , 5F045DP02 , 5F045DQ17 , 5F045EN04

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