特許
J-GLOBAL ID：200903037573610470
光学膜とその形成方法、反射防止膜とその形成方法、反射膜とその形成方法および光学膜を備えた光素子
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岡本 啓三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-320458
公開番号（公開出願番号）：特開平7-113901
出願日： 1993年12月20日
公開日（公表日）： 1995年05月02日
要約：
【要約】【目的】半導体光素子の光入射端、光出射端などに形成される多層構造の光学膜に関し、多層構造を構成する高屈折率層の屈折率を広く制御すること。【構成】高屈折率層と低屈折率層からなる多層構造に形成され、該高屈折率層は酸化窒化チタン膜から形成されていることを含む。
請求項（抜粋）：
低屈折率層と酸化窒化チタンよりなる高屈折率層とからなる多層構造を有することを特徴とする光学膜。
IPC (3件)：
G02B 1/11
, C23C 14/06
, C23C 14/48
