特許
J-GLOBAL ID:200903037575611652
カーボンナノウォール及びその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
藤谷 修
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-081314
公開番号(公開出願番号):特開2009-234833
出願日: 2008年03月26日
公開日(公表日): 2009年10月15日
要約:
【課題】凹凸基板の隣り合う凸部と凸部を橋架けするカーボンナノウォール。【解決手段】電子線励起プラズマ発生装置を用いることで、炭素源から極めてエネルギーの高い化学種を生成させることができる。また、凸部と凸部の間隔を200nmとし、表面にチタンその他の金属膜を形成することで、隣り合う凸部と凸部を橋架けするカーボンナノウォールを形成できた(2.B)。【選択図】図2
請求項(抜粋):
電子線励起プラズマを用い、
凹凸を形成した基板上に、当該基板の凹部を跨いで隣り合う凸部の橋架け状にカーボンナノウォールを形成することを特徴とするカーボンナノウォールの製造方法。
IPC (3件):
C01B 31/02
, B82B 3/00
, H01L 29/06
FI (3件):
C01B31/02 101Z
, B82B3/00
, H01L29/06 601N
Fターム (17件):
4G146AA07
, 4G146AB06
, 4G146AB07
, 4G146AC16B
, 4G146AD30
, 4G146BA12
, 4G146BA48
, 4G146BB22
, 4G146BB23
, 4G146BC09
, 4G146BC16
, 4G146BC25
, 4G146BC27
, 4G146BC33B
, 4G146BC38B
, 4G146BC42
, 4G146BC43
引用特許:
引用文献:
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