特許
J-GLOBAL ID:200903037577613903
レジスト
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
則近 憲佑
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-105164
公開番号(公開出願番号):特開平8-305028
出願日: 1995年04月28日
公開日(公表日): 1996年11月22日
要約:
【要約】【目的】 感光性を有するとともにドライエッチング耐性に優れ、かつ熱安定性が良好な高精度のパターン形成を可能とするレジストの提供。【構成】 下記一般式(1)及び(2)のいずれかで表される繰返し単位を有するポリシランからなる。【化1】
請求項(抜粋):
下記一般式(1)及び(2)のいずれかで表される繰返し単位を有するポリシランからなることを特徴とするレジスト。【化1】
IPC (3件):
G03F 7/075 511
, C08G 77/60 NUM
, G03F 7/004 503
FI (3件):
G03F 7/075 511
, C08G 77/60 NUM
, G03F 7/004 503
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