特許
J-GLOBAL ID：200903037584335404
スパッタリング装置およびその磁気回路
発明者：
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出願人/特許権者：
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公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-205783
公開番号（公開出願番号）：特開2003-027232
出願日： 2001年07月06日
公開日（公表日）： 2003年01月29日
要約：
【要約】【課題】 永久磁石表面の腐食および接着部の接着強度の低下を防止でき、ターゲット近傍の磁場が強く、安価で、品質が安定した、スパッタリング装置およびその磁気回路を提供する。【解決手段】 ヨークに永久磁石が固着された磁気回路を具備し、前記磁気回路に冷媒21が供給されるようにしたスパッタリング装置において、前記磁気回路の少なくとも前記冷媒21と接触する部分に、少なくともエポキシ樹脂の第1層と、フッ素樹脂の第2層から成る膜が具備されているスパッタリング装置。
請求項（抜粋）：
ヨークに永久磁石が固着された磁気回路を具備し、前記磁気回路に冷媒が供給されるようにしたスパッタリング装置において、前記磁気回路の少なくとも前記冷媒に接触する部分に、少なくともエポキシ樹脂の第1層と、フッ素樹脂の第2層から成る膜が具備されていることを特徴とするスパッタリング装置。
Fターム (5件)：
4K029BD01
, 4K029BD11
, 4K029CA05
, 4K029DC40
, 4K029DC42
