特許
J-GLOBAL ID：200903037603920410
ドライエッチング方法及び装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
谷川 昌夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-303590
公開番号（公開出願番号）：特開平7-161687
出願日： 1993年12月03日
公開日（公表日）： 1995年06月23日
要約：
【要約】【目的】銅又は銅合金を極めて精度よくドライエッチングできるドライエッチング方法及び装置を提供する。【構成】少なくとも、ハロゲン化アルミニウムのガスと、ハロゲンガスまたは(及び)ハロゲン化アルミニウム以外のハロゲン化物のガスと、中性配位子となりうる物質のガスとを真空装置1内に導入し、この混合ガスを所定真空状態下で電力印加によりプラズマ化し、このプラズマの下で真空装置1内に予め配置した銅または銅合金S1をドライエッチングするドライエッチング方法及び装置。
請求項（抜粋）：
少なくとも、ハロゲン化アルミニウムのガスと、ハロゲンガスまたは(及び)ハロゲン化アルミニウム以外のハロゲン化物のガスと、中性配位子となりうる物質のガスとを真空装置内に導入し、この混合ガスを所定真空状態下で電力印加によりプラズマ化し、このプラズマの下で前記真空装置内に予め配置した銅または銅合金をドライエッチングするドライエッチング方法。
IPC (2件)：
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