特許

J-GLOBAL ID：200903037604052625

露光方法及び装置

発明者： 安田 雅彦
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-085140
公開番号（公開出願番号）：特開平10-284371
出願日： 1997年04月03日
公開日（公表日）： 1998年10月23日
要約：

【要約】【課題】 ウエハ等の基板に対する必要な積算露光量(ドーズ)が小さくなった場合でも、結像性能を悪化させることなく、高精度に積算露光量を制御する。【解決手段】 露光光源1からの照明光を照明シャッタ3等を介してフライアイレンズ10に照射し、フライアイレンズ10からの露光光を可変視野絞り16、コンデンサレンズ22等を介してレチクルRのパターン面P1に導き、レチクルRのパターンの像を投影光学系PLを介してウエハW上に転写する。可変視野絞り16の配置面、即ちウエハWの表面と共役な面の近傍に開口19を走査する像面シャッタ20を配置し、照明シャッタ3を開いた状態で、開口19を走査すると共に、開口19の幅、又は走査速度の少なくとも一方を制御して積算露光量を制御する。

請求項（抜粋）：

所定の露光光のもとでマスク上のパターンを基板上に転写する露光方法において、前記基板の表面の近傍、又は前記表面に対する光学的な共役面若しくはこの近傍で前記露光光の光路を横切るように所定幅の開口を走査すると共に、前記開口の走査方向の幅、又は前記開口の走査速度の少なくとも一方を制御することによって、前記基板に対する前記露光光の露光量を制御することを特徴とする露光方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (3件)：

H01L 21/30 515 E ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 518