特許

J-GLOBAL ID：200903037606865356

脱リン装置及び該装置を付設した汚水浄化槽

発明者： 片貝 信義
出願人/特許権者： 日立化成工業株式会社
代理人 (1件)： 若林 邦彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-041289
公開番号（公開出願番号）：特開平10-235104
出願日： 1997年02月26日
公開日（公表日）： 1998年09月08日
要約：

【要約】【課題】 定量ポンプ等の電気的な付帯機器を使用することなく、定量的にリン除去剤を供給可能な脱リン装置及び該装置を用いた汚水浄化槽を提供する。【解決手段】 脱リン装置は、少なくとも側壁又は底部に開口部2を有する箱体1と、該箱体1内に載置される通水性を有した容器3と、該容器3に圧力をかける加重体4からなる装置であって、前記容器3内にリン酸イオンと反応して不溶性又は難溶性の塩を形成するリン除去剤6の水溶液を入れたものである。また、汚水浄化槽は、槽内を上流側から嫌気濾床槽、好気濾床槽11、沈殿槽又は処理水槽、消毒槽13に区切り、前記沈殿槽又は処理水槽から嫌気濾床槽へ返流させる循環水移行管14を有した汚水浄化槽8であって、前記嫌気濾床槽、好気濾床槽11又は循環水移行管14に前述した脱リン装置を付設している。

請求項（抜粋）：

少なくとも側壁又は底部に開口部を有する箱体と、該箱体内に載置される通水性を有した容器と、該容器に圧力をかける加重体からなる装置であって、前記容器内にリン酸イオンと反応して不溶性又は難溶性の塩を形成するリン除去剤の水溶液を入れたことを特徴とする脱リン装置。

IPC (4件)：

B01D 21/01 102 ,  C02F 1/52 CDQ ,  C02F 3/00 ,  C02F 3/30 ZAB

FI (4件)：

B01D 21/01 102 ,  C02F 1/52 CDQ E ,  C02F 3/00 B ,  C02F 3/30 ZAB C