特許

J-GLOBAL ID：200903037608408041

シリコンハライドの添加によって改善されたTiO▲下2▼の製造法

発明者： ゴンザーレス,ロール・アールベルトウ
出願人/特許権者： イー・アイ・デュポン・ドゥ・ヌムール・アンド・カンパニー
代理人 (1件)： 高木 千嘉 (外2名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-503231
公開番号（公開出願番号）：特表平9-511985
出願日： 1995年06月27日
公開日（公表日）： 1997年12月02日
要約：

【要約】プラグフロー反応器中で、TiCl4と酸素含有ガスとの反応において、シリコンハライドを添加することによって、実質的にアナターゼを含まないTiO2を製造するための方法が開示されている。顔料の性質、例えば光沢およびCBUは、耐久性を損なうことなく高められている。

請求項（抜粋）：

蒸気のTiCl4、酸素含有ガスおよびアルミニウムハライドをプラグフロー反応器中で反応させ、シリコンハライドを約1200°C〜約1600°Cの範囲のプロセス温度で導入することからなり、そしてシリコンハライドを、酸素含有ガスとTiCl4とを最初に接触させた所の下流の一つまたはそれ以上の箇所で添加する、実質的にアナターゼを含まないTiO2を製造するための気相方法。