特許
J-GLOBAL ID：200903037615586583
セラミック溶射膜およびその形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
丸島 儀一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-101009
公開番号（公開出願番号）：特開平7-310163
出願日： 1994年05月16日
公開日（公表日）： 1995年11月28日
要約：
【要約】【目的】 使用上または仕上げ加工時でも良好な耐食性を持った溶射被膜を得る。【構成】 金属母材の下地加工時に、溶射に最適な粗さを形成してからニッケルメッキを厚付する。そして通常は面粗さ形成及び面の活性化を目的とした溶射前のブラスト処理を、面の活性化のみを目的とした軽微なものとしてメッキ層を残し、その上にセラミック被膜を溶射する。
請求項（抜粋）：
母材にめっきを施し、そのめっき上に形成されたことを特徴とするセラミック溶射膜。
IPC (2件)：
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