特許

J-GLOBAL ID：200903037616192171

二酸化炭素含有ガス処理方法及びその装置

発明者： 清家 聡 ,  羽場 方紀
出願人/特許権者： 株式会社明電舎
代理人 (2件)： 志賀 富士弥 ,  橋本 剛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-228097
公開番号（公開出願番号）：特開2004-066091
出願日： 2002年08月06日
公開日（公表日）： 2004年03月04日
要約：

【課題】簡単な制御で、光合成生物に供給する二酸化炭素濃度を適切に調節すること。【解決手段】二酸化炭素含有ガスから二酸化炭素を除去する二酸化炭素固定手段2と、二酸化炭素固定手段2から供給された二酸化炭素に富むガスを大気よって希釈する二酸化炭素希釈装置4と、前記希釈されたガスが供給される光合成生物培養ハウス5と、前記ハウス5内の照度、気温及び二酸化炭素濃度に基づいて前記希釈操作若しくは前記ハウス5へのガス供給量を制御する制御装置6と、を具備する。二酸化炭素固定手段2は、イオン供給源物質が供給される正極31と前記二酸化炭素含有ガスが供給される負極32とを設けた固体電解質30と、正負極31,32間に電圧を印加して負極32において気相中の二酸化炭素を炭酸塩として固定分離させる電源33とを、備えた二酸化炭素固定装置を具備し、固体電解質30がナトリウムイオン導電体若しくはリチウムイオン導電体である場合、イオン供給源物質としてはナトリウム化合物若しくはリチウム化合物が供給される。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

二酸化炭素含有ガスから二酸化炭素を固定する工程と、 前記固定した二酸化炭素を放出する工程と、 前記二酸化炭素を放出する工程から供給された二酸化炭素に富むガスを、気相中の二酸化炭素濃度が一定濃度となるように希釈する工程と、 前記希釈する工程から供給されたガスを光合成生物の培養ハウスに供給して、光合成によって当該ガス中の二酸化炭素を前記生物に吸収させる工程とからなる二酸化炭素含有ガス処理方法であって、 前記二酸化炭素を固定する工程は、正極と負極とを設けた固体電解質の正極に、イオン供給源物質を接触させ、かつ、前記固体電解質の負極に、酸素を含んだ前記二酸化炭素含有ガスを接触すると共に、前記正負極間に直流電圧を印加することによって、前記負極側において気相中の二酸化炭素を炭酸塩として固定させること、 前記二酸化炭素を放出する工程は、前記電圧が印加された正負極間の電位を逆転させることによって、前記固定した二酸化炭素を遊離させること、及び 前記固体電解質がナトリウムイオン導電体である場合は前記イオン供給源物質がナトリウム化合物であること、若しくは前記固体電解質がリチウムイオン導電体である場合は前記イオン供給源物質がリチウム化合物であること を特徴とする二酸化炭素含有ガス処理方法。

IPC (6件)：

B01J19/00 ,  A01G7/02 ,  A01G9/18 ,  B01D53/32 ,  B01D53/62 ,  B01J19/08

FI (6件)：

B01J19/00 A ,  A01G7/02 ,  A01G9/18 ,  B01D53/32 ,  B01J19/08 A ,  B01D53/34 135Z

Fターム (26件)：

2B022DA12 ,  2B029JA06 ,  4D002AA09 ,  4D002AC07 ,  4D002AC10 ,  4D002BA03 ,  4D002BA20 ,  4D002CA20 ,  4D002DA01 ,  4D002DA02 ,  4D002DA12 ,  4D002EA13 ,  4D002EA14 ,  4D002GA03 ,  4D002GB20 ,  4D002HA08 ,  4G075AA04 ,  4G075AA43 ,  4G075AA62 ,  4G075BA08 ,  4G075BD14 ,  4G075CA13 ,  4G075CA54 ,  4G075CA57 ,  4G075FB04 ,  4G075FC02