特許
J-GLOBAL ID:200903037617966430
感光性組成物及びそれを用いたパタ-ン形成方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-000198
公開番号(公開出願番号):特開2000-199963
出願日: 1999年01月04日
公開日(公表日): 2000年07月18日
要約:
【要約】【課題】紫外線等の活性エネルギー線の照射によって厚膜パターンの形成が可能である感光性組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】下記式(1)で表される繰り返し単位を有する光硬化性シラザン化合物(A)、少なくとも2個の(メタ)アクリロイル基を有する光硬化性化合物(B)及び光重合開始剤(C)を含有する感光性組成物。【化1】(上式において、R1はラジカル重合性不飽和基を含む基であり、R2、R3及びR4は互いに同一であるか又は異なる基であり、水素原子、炭素原子数1〜3のアルキル基又はアリール基である。)
請求項(抜粋):
下記式(1)で表される繰り返し単位を有する光硬化性シラザン化合物(A)、少なくとも2個の(メタ)アクリロイル基を有する光硬化性化合物(B)及び光重合開始剤(C)を含有することを特徴とする感光性組成物。【化1】(上式において、R1はラジカル重合性不飽和基を含む基であり、R2、R3及びR4は互いに同一であるか又は異なる基であり、水素原子、炭素原子数1〜3のアルキル基又はアリール基である。)
IPC (10件):
G03F 7/075 511
, C08F 2/46
, C08F290/14
, C09D 4/02
, C09D183/14
, G03F 7/027 501
, G03F 7/028
, G03F 7/30
, G03F 7/40 501
, H01L 21/027
FI (10件):
G03F 7/075 511
, C08F 2/46
, C08F290/14
, C09D 4/02
, C09D183/14
, G03F 7/027 501
, G03F 7/028
, G03F 7/30
, G03F 7/40 501
, H01L 21/30 502 R
Fターム (88件):
2H025AA00
, 2H025AB15
, 2H025AB17
, 2H025AC01
, 2H025AD01
, 2H025BC14
, 2H025BC42
, 2H025BC53
, 2H025BC77
, 2H025CA01
, 2H025FA03
, 2H025FA15
, 2H025FA29
, 2H096AA00
, 2H096AA26
, 2H096AA27
, 2H096BA05
, 2H096BA06
, 2H096BA20
, 2H096EA02
, 2H096GA02
, 2H096HA01
, 2H096JA04
, 4J011QA23
, 4J011QA24
, 4J011QA27
, 4J011QA43
, 4J011QB03
, 4J011QB20
, 4J011QB22
, 4J011QB24
, 4J011QB25
, 4J011SA02
, 4J011SA04
, 4J011SA16
, 4J011SA46
, 4J011SA54
, 4J011SA64
, 4J011SA82
, 4J011UA01
, 4J011UA03
, 4J011UA04
, 4J011UA05
, 4J011VA01
, 4J011WA01
, 4J027AA02
, 4J027AE02
, 4J027AE03
, 4J027AE04
, 4J027AG01
, 4J027AH03
, 4J027AJ08
, 4J027BA23
, 4J027BA24
, 4J027BA26
, 4J027BA27
, 4J027CA18
, 4J027CA19
, 4J027CA36
, 4J027CB03
, 4J027CB09
, 4J027CB10
, 4J027CC02
, 4J027CC03
, 4J027CC05
, 4J027CC06
, 4J027CC08
, 4J027CD10
, 4J038FA121
, 4J038FA122
, 4J038FA211
, 4J038FA212
, 4J038FA241
, 4J038FA242
, 4J038FA251
, 4J038FA252
, 4J038FA281
, 4J038FA282
, 4J038JA29
, 4J038JA33
, 4J038JA34
, 4J038JB39
, 4J038JC18
, 4J038KA03
, 4J038NA18
, 4J038PA17
, 4J038PB08
, 4J038PC03
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