特許
J-GLOBAL ID：200903037632056741
サセプタ駆動及びウエハ変位機構
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷川 芳樹 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-025327
公開番号（公開出願番号）：特開平6-318630
出願日： 1994年02月23日
公開日（公表日）： 1994年11月15日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】 サセプタの摩滅から生じる汚染粒子の量を減少させるサセプタ駆動とウエハ変位の両機構を提供する。【構成】 半導体ウエハ処理操作の為の熱反応チャンバであって、チャンバ32内には半導体ウエハ38を支持し、垂直に形成された複数の貫通孔68を有するサセプタ36と、このサセプタを第1と第2の位置間で垂直に変位させる変位手段34と、複数のウエハ支持要素66があって、各々が前記孔68内で垂直に移動自在に吊り下げられている。またウエハ支持要素66の下方移動を規制する規制手段58があって、これはウエハ支持要素66を下方移動サセプタ36に対し垂直上方に移動させて、ウエハ38をサセプタ36から離間させる。
請求項（抜粋）：
半導体ウエハ処理操作の為の熱反応チャンバであって、(i) チャンバ内で半導体ウエハを支持し、垂直に形成された複数の貫通孔を有するサセプタと、(ii)少なくとも第1の位置から第2の位置の間で垂直に当該サセプタを変位させる変位手段(displacer) と、(iii) 複数のウエハ支持要素であって、各々が前記孔内で垂直に移動自在に吊り下げられており(is suspended)、各々が当該サセプタの下部を越えて伸びているもの、(iv)該ウエハ支持要素の下方移動を規制する規制手段(means for restricting)とを備え、上記サセプタが第1の位置から該第2の位置の前にある中間位置を通って変位するとき、上記ウエハ支持要素の連続した下方移動を停止させる為に上記規制手段が作動し、もって、上記要素が下方に移動するサセプタに対し垂直上方に移動し、上記ウエハを上記サセプタから離間させる熱反応チャンバ。
IPC (3件)：
H01L 21/68
, C30B 25/12
, H01L 21/324
出願人引用 (2件)
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特開昭63-244643
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特開昭63-010540
審査官引用 (10件)
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