特許
J-GLOBAL ID：200903037640721860

化学増幅系レジスト

発明者：
井谷 俊郎

井谷 俊郎 について


出願人/特許権者：
日本電気株式会社

日本電気株式会社 について


代理人 (1件)： 若林 忠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-056357
公開番号（公開出願番号）：特開平10-254137
出願日： 1997年03月11日
公開日（公表日）： 1998年09月25日
要約：
【要約】【課題】 現像後のレジストパターンがテーパー形状になることを防止し、解像性、焦点深度、寸法精度等に優れ、同時にドライエッチング耐性及び耐熱性にも優れたArF用化学増幅系レジストを提供する。【解決手段】 脂環式アクリル系樹脂と光酸発生剤とを含んで成るレジストに、芳香環を有する樹脂を添加したArF用化学増幅系レジスト。芳香環を有する樹脂としては、ポリヒドロキシスチレン樹脂、ノボラック樹脂、t-BOC保護型ポリヒドロキシスチレン樹脂等が好ましく、その添加量はベース樹脂100重量部に対し1〜10重量部程度が好ましい。
請求項（抜粋）：
脂環式アクリル系樹脂と光酸発生剤とを含んで成る化学増幅系レジストにおいて、芳香環を有する樹脂が添加されたことを特徴とする化学増幅系レジスト。
IPC (5件)：
G03F 7/039 601 ,  C08L 25/18 ,  C08L 33/04 ,  C08L 61/08 ,  H01L 21/027
FI (5件)：
G03F 7/039 601 ,  C08L 25/18 ,  C08L 33/04 ,  C08L 61/08 ,  H01L 21/30 502 R
引用特許：
審査官引用 (6件)
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