特許
J-GLOBAL ID：200903037661385860
異物分析装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
尾川 秀昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-237109
公開番号（公開出願番号）：特開平5-055333
出願日： 1991年08月25日
公開日（公表日）： 1993年03月05日
要約：
【要約】【目的】 半導体ウエハの表面の異物の成分分析を微細異物も分析対象となり得るように行う。【構成】 一つの分析エリア内の分析用ビームの反射ビームを検出する検出器の各分析エリア毎の出力信号を積分手段により積分し、該積分手段の出力から異物の全体的成分分析を行うようにしてなる。
請求項（抜粋）：
分析用ビームを照射された分析エリアからの分析用ビームの反射ビームを検出する検出器と、各分析エリア毎の上記検出器の出力を積分する積分手段と、を少なくとも備え、上記積分手段の出力から異物の成分分析をするようにしたことを特徴とする異物分析装置
IPC (2件)：
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