特許

J-GLOBAL ID：200903037666213277

有機ケイ素重合体の製造方法

発明者： 小林 秀樹 ,  西海 航
出願人/特許権者： 東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-235533
公開番号（公開出願番号）：特開平5-051459
出願日： 1991年08月22日
公開日（公表日）： 1993年03月02日
要約：

【要約】【目的】 一般式(Me2RSiO1/2)m(SiO4/2)n (式中、Meはメチル基であり、Rは炭素原子数が2個以上の置換または非置換の1価炭化水素基であり、m/nは 0.2〜4である。)で表される有機ケイ素重合体を効率よく製造する方法を提供するにある。【構成】 一般式 (a) (Me2RSi)2O(式中、MeとRは前記と同じである。)で表されるジシロキサンと、アルキルシリケ-トまたはアルキルシリケ-トの部分加水分解物との混合物を、プロトン酸系強酸触媒を加えて反応させ、しかる後、該反応混合物に塩酸水を滴下することにより、該反応混合物中に残存するアルコキシ基を減少させることを特徴とする、一般式(b)(Me2RSiO1/2)m(SiO4/2)n (式中、MeとRは前記と同じであり、m/nは 0.2〜4である。)で表される有機ケイ素重合体の製造方法。

請求項（抜粋）：

一般式 (a) (Me2RSi)2O(式中、Meはメチル基であり、Rは炭素原子数が2個以上の置換または非置換の1価炭化水素基である。)で表されるジシロキサンと、アルキルシリケ-トまたはアルキルシリケ-トの部分加水分解物との混合物を、プロトン酸系強酸触媒を加えて反応させ、しかる後、該反応混合物に塩酸水を滴下することにより、該反応混合物中に残存するアルコキシ基を減少させることを特徴とする、一般式(b)(Me2RSiO1/2)m(SiO4/2)n (式中、MeとRは前記と同じであり、m/nは0.2〜4である。)で表される有機ケイ素重合体の製造方法。