特許

J-GLOBAL ID：200903037669722504

廃水処理方法及び装置

発明者： 三木 康平 ,  佐藤 二朗
出願人/特許権者： 住友重機械工業株式会社
代理人 (1件)： 長谷川 芳樹 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-077738
公開番号（公開出願番号）：特開2000-263072
出願日： 1999年03月23日
公開日（公表日）： 2000年09月26日
要約：

【要約】【課題】 廃水中にオゾンを十分に溶解させると共に、溶解したオゾンを効率よくヒドロキシラジカルに転化させることを可能とし、紫外線照射装置を増設することなく廃水中の有機物を十分に除去することができる廃水処理方法及び装置を提供する。【解決手段】 本発明にかかる廃水処理方法は、有機物を含んだ廃水に酸を供給する酸供給工程と、酸が供給された廃水にオゾンを供給するオゾン供給工程と、オゾンが供給された廃水にアルカリを供給するアルカリ供給工程と、アルカリが供給された廃水に紫外線を照射する紫外線照射工程とを含む構成である。この場合、酸供給により廃水のpHを下げることで、高濃度にオゾンを溶解させることができる。また、アルカリ供給により廃水のpHを上げることで、紫外線照射によるオゾンのラジカル化を促進できる。その結果、廃水中でヒドロキシラジカルが十分に生成され、廃水を効率的に処理できる。

請求項（抜粋）：

有機物を含んだ廃水に酸を供給する酸供給工程と、酸が供給された前記廃水にオゾンを供給するオゾン供給工程と、オゾンが供給された前記廃水にアルカリを供給するアルカリ供給工程と、アルカリが供給された前記廃水に紫外線を照射する紫外線照射工程と、を含む廃水処理方法。

IPC (8件)：

C02F 1/78 ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/66 510 ,  C02F 1/66 521 ,  C02F 1/66 522 ,  C02F 1/66 530 ,  C02F 1/66 ,  C02F 1/66 540

FI (8件)：

C02F 1/78 ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/66 510 K ,  C02F 1/66 521 B ,  C02F 1/66 522 A ,  C02F 1/66 530 L ,  C02F 1/66 530 P ,  C02F 1/66 540 H

Fターム (19件)：

4D037AA11 ,  4D037AB14 ,  4D037BA18 ,  4D037BB01 ,  4D037BB02 ,  4D037CA12 ,  4D037CA14 ,  4D050AA12 ,  4D050AA20 ,  4D050AB19 ,  4D050BB02 ,  4D050BC09 ,  4D050BD02 ,  4D050BD03 ,  4D050BD04 ,  4D050BD06 ,  4D050BD08 ,  4D050CA03 ,  4D050CA13