特許
J-GLOBAL ID：200903037700878135

連続熱CVD装置

発明者：
澤井 百世

澤井 百世 について


出願人/特許権者：
日立造船株式会社

日立造船株式会社 について


代理人 (4件)： 日比 紀彦 ,  岸本 瑛之助 ,  渡邊 彰 ,  清末 康子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-285733
公開番号（公開出願番号）：特開2007-092152
出願日： 2005年09月30日
公開日（公表日）： 2007年04月12日
要約：
【課題】反応器内へ不純物ガス成分やパーティクルが混入する恐れがなく、基板近傍での基板・ガスの温度分布およびガス流れの制御がし易くて均-性の高い膜の形成が可能である連続熱CVD装置を提供する。【解決手段】本発明は、水平に配されたループ状のベルトコンベヤ1 と、コンベヤの一端部上に供給された基板4 と、コンベヤの一側の長さ中央部から他端円弧部に亘って設けられた基板予熱ゾーン9 と、コンベヤの他側にその他端部から長さ中央部に亘って設けられたCVD加熱ゾーン11と、コンベヤの他端他側に設けられた原料ガス流入口3 と、コンベヤの他端他側に設けられ、かつ基板予熱ゾーンからCVD加熱ゾーンへのガス流入を防ぐと共に原料ガスをCVD加熱ゾーンへ運ぶキャリアガスの流入口2 とを具備した連続CVD装置を提供する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
水平に配されたループ状のベルトコンベヤと、コンベヤの一端部上に供給された基板と、コンベヤの一側の長さ中央部から他端円弧部に亘って設けられた基板予熱ゾーンと、コンベヤの他側にその他端部から長さ中央部に亘って設けられたCVD加熱ゾーンと、コンベヤの他端他側に設けられた原料ガス流入口と、コンベヤの他端他側に設けられ、かつ原料ガスをCVD加熱ゾーンへ運ぶと共に基板予熱ゾーンからCVD加熱ゾーンへのガス流入を防ぐキャリアガスの流入口とを具備した連続CVD装置。
IPC (2件)：
C23C 16/26 ,  C23C 16/54
FI (2件)：
C23C16/26 ,  C23C16/54
Fターム (8件)：
4K030AA09 ,  4K030BA27 ,  4K030BB01 ,  4K030CA04 ,  4K030CA12 ,  4K030EA03 ,  4K030FA10 ,  4K030GA14
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • 常圧気相成長装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-248169   出願人：九州日本電気株式会社
審査官引用 (3件)
  • 常圧CVD装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-221894   出願人：九州日本電気株式会社
  • 特開昭62-120481
  • 常圧気相成長装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-248169   出願人：九州日本電気株式会社

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