特許

J-GLOBAL ID：200903037715252763

露光装置、マスク装置及びパターン保護装置、並びにデバイス製造方法

発明者： 白石 直正 ,  青木 貴史
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 立石 篤司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-215593
公開番号（公開出願番号）：特開2002-033258
出願日： 2000年07月17日
公開日（公表日）： 2002年01月31日
要約：

【要約】【課題】 露光光透過率を良好にかつ安定して維持する。【解決手段】 そのパターン面にフレーム76を介してペリクル75が装着されたレチクルRがレチクルホルダ14により保持された状態で、そのレチクルRのパターン面とフレーム76とペリクル75とで囲まれた保護空間PS内に所定のガス、例えば窒素又は希ガス等の低吸収性ガスを給気管66を介して供給するガス供給系を備えている。低吸収性ガスの供給により、保護空間PS内部の気体がその低吸収性ガスに置換される。これにより、従来考慮されていなかった保護空間内のガス置換を行なうことが可能となる。従って、保護空間PS内部を含む、露光光ELの全ての光路上の空間のガス置換を容易に実現することが可能となり、露光光透過率を良好にかつ安定して維持することができる。

請求項（抜粋）：

エネルギビームをマスクに照射し、前記マスクに形成されたパターンを基板上に転写する露光装置であって、そのパターン面にフレームを介してパターン保護材が装着された前記マスクを保持するマスク保持部材と;前記マスク保持部材に前記パターン保護材が装着された前記マスクが保持された状態で、前記パターン面と前記フレームと前記パターン保護材とで囲まれた空間内に所定のガスを供給するガス供給系とを備える露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/14 ,  G03F 7/20 521

FI (6件)：

G03F 1/14 M ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 503 G ,  H01L 21/30 514 D ,  H01L 21/30 515 F ,  H01L 21/30 516 F

Fターム (10件)：

2H095BE12 ,  5F046AA22 ,  5F046CC02 ,  5F046CC09 ,  5F046CC18 ,  5F046CD02 ,  5F046CD04 ,  5F046CD06 ,  5F046DA27 ,  5F046DB03