特許
J-GLOBAL ID：200903037721853701
3,3’-ビシクロヘキセニルの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-144736
公開番号（公開出願番号）：特開2004-346007
出願日： 2003年05月22日
公開日（公表日）： 2004年12月09日
要約：
【課題】3,3’-ビシクロヘキセニルを高収率で製造することができる、工業的に有利な製造方法を提供する。【解決手段】下記一般式(1):【化1】で表される3,3’-ビシクロヘキセニルを、塩酸、硫酸、メタンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸等の触媒の存在下、下記一般式(2):【化2】で表されるビシクロヘキシル-4,4’-ジオールを加熱して脱水反応を行い、分子の両末端の水酸基を脱離させることにより製造する。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
一般式(1):
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (6件)：
4H006AA02
, 4H006AC13
, 4H006BA52
, 4H006BA66
, 4H039CA40
, 4H039CG10
