特許
J-GLOBAL ID：200903037725454801
面形状測定装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
細江 利昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-082274
公開番号（公開出願番号）：特開2000-275021
出願日： 1999年03月25日
公開日（公表日）： 2000年10月06日
要約：
【要約】【課題】 測定時に振動等がある場合でも、位相シフト法を用いて面形状を高精度に測定できる面形状測定装置を提供する。【解決手段】 フィゾ-平面部材5の参照面の領域5aからの反射光と、被検面6からの反射光を干渉させ、位相分布を測定し、位相シフト干渉法を用いて被検面6の面形状を測定する。その際、領域5bからの反射光と基準面となる反射平面部材8からの反射光とを干渉させ、その位相分布を同時に測定する。そして、後者の位相分布から位相測定誤差を求め、この位相測定誤差に基づいて前者の位相分布を補正する。このように、基準面を同時に計測したときに計算される誤差に基づいて測定値を補正しているので、振動等による誤差がある場合でも、その影響を消去することができ、正確な面形状の測定が可能となる。
請求項（抜粋）：
光源から出射された光束の一部を測定光束として被検面に照射すると共に、被検面で反射された測定光束と、前記光源から出射された光束の一部であって所定の波面を有する参照光束とを互いに干渉させ、干渉により生じる干渉縞(測定干渉縞)の位相分布を位相シフト干渉法で測定する面形状測定装置であって、(a) 前記被検面で反射された前記測定光束との位相関係が一定である誤差検出用測定光束を形成する手段と、(b) 前記参照光束との位相関係が一定である誤差検出用参照光束を形成する手段と、(c) 前記誤差検出用測定光束と前記誤差検出用参照光束とを互いに干渉させ、干渉により生じる干渉縞(誤差検出用干渉縞)の位相分布を前記測定干渉縞の位相分布と同時に観測する手段と、(d) 誤差検出用干渉縞の位相分布の測定データから位相測定誤差を求める手段と、(e) 求められた位相測定誤差を用いて、前記測定干渉縞から求められた被検面形状の測定誤差を補正する手段とを有することを特徴とする面形状測定装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (29件)：
2F064AA09
, 2F064BB04
, 2F064BB05
, 2F064DD05
, 2F064EE05
, 2F064FF01
, 2F064GG12
, 2F064GG23
, 2F064GG38
, 2F064GG47
, 2F064GG53
, 2F064HH03
, 2F064HH08
, 2F064HH09
, 2F065AA54
, 2F065CC21
, 2F065CC22
, 2F065DD14
, 2F065FF52
, 2F065GG04
, 2F065JJ03
, 2F065JJ19
, 2F065JJ26
, 2F065LL09
, 2F065LL10
, 2F065LL12
, 2F065LL19
, 2F065LL36
, 2F065LL37
