特許

J-GLOBAL ID：200903037726398697

垂直薄膜磁気ヘッド及びその製造方法

発明者： 佐藤 賢治 ,  若松 弘晃 ,  高橋 実
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 宇井 正一 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-106973
公開番号（公開出願番号）：特開平6-318311
出願日： 1993年05月07日
公開日（公表日）： 1994年11月15日
要約：

【要約】【目的】 本発明は垂直薄膜磁気ヘッド及びその製造方法に関し、記録・再生効率が良く、且つ製造歩留り良く製造できる垂直薄膜磁気ヘッド及びその製造方法を実現することを目的とする。【構成】 軟磁性膜22を保護膜23を介して挟んで接着した非磁性基板20,25を、平行に切断して形成したバー状のヘッド形成用基板26を、その軟磁性膜22が垂直になるようにして耐熱性樹脂27で固定台28に固定し、その上にコイル29、中心磁極ヨーク30、絶縁膜31を順次形成し、該絶縁膜31を中心磁極ヨーク30が露出するまで研磨し、更にリターンヨーク形成用の溝32を形成した後軟磁性膜でリターンヨーク33を形成後、固定台28より取り外し、その取り外した面を研磨して媒体対向面を形成するように構成する。

請求項（抜粋）：

a.ウェハ状の非磁性基板(20)の上に保護膜(21)、軟磁性膜(22)、保護膜(23)を順次形成し、その上に第2の非磁性基板(25)を接着してヘッド形成用ブロックを形成する工程、b.前記ヘッド形成用ブロックを平行に切断して複数のバー状のヘッド形成用基板(26)を形成する工程、c.前記ヘッド形成用基板(26)を、その軟磁性膜(22)が垂直となるように並べ耐熱性樹脂(27)を用いて固定台(28)の上に接着する工程、d.前記ヘッド形成用基板(26)の上に、軟磁性膜(22)を中心とするコイル(29)をCu膜で形成する工程、e.前記コイル(29)の中心で且つ軟磁性膜(22)に磁気的に接続する中心磁極ヨーク(30)を軟磁性材を用いて形成する工程、f.前記ヘッド形成用基板(26)の上に絶縁膜(31)を形成した後、該絶縁膜(31)を中心磁極ヨーク(30)が露出するまで研磨する工程、g.前記コイル(29)の両側で且つ軟磁性膜(22)に平行にリターンヨーク用の溝(32)を絶縁膜(31)からヘッド形成用基板(26)にかけて形成する工程、h.前記絶縁膜(31)の上にリターンヨーク(33)となる軟磁性膜(33′)を形成後、その上面を平滑になるまで研磨する工程、i.前記耐熱性樹脂(27)を溶解して固定台(28)を除去し、その除去した面を溝(32)の中のリターンヨーク(33)が露出するまで研磨し、その後、個々のヘッドに切断分離する工程、の諸工程より成ることを特徴とする垂直薄膜磁気ヘッドの製造方法。

IPC (2件)：

G11B 5/31 ,  G11B 5/23