膜形成用組成物、膜の形成方法および低密度化膜

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：白井重隆
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-177694
公開番号（公開出願番号）：特開2001-002992
出願日： 1999年06月24日
公開日（公表日）： 2001年01月09日
要約：

【要約】【課題】 450°C以下での硬化可能であり、得られる膜が適当な均一な厚さを有し、誘電率特性、吸水性特性に優れ、かつ空隙サイズが小さく、半導体素子などにおける層間絶縁膜として有用な、膜形成用組成物を提供する。【解決手段】 (A)R2 R3 Si(OR1 )2 および/またはR2 Si(OR1 )3 ならびにSi(OR1 )4 (R1 〜R3 は、同一でも異なっていてもよく、それぞれ1価の有機基を示す)、で表される化合物、これらの加水分解物および/またはこれらの縮合物、(B)(メタ)アクリレート系重合体、ならびに(C)アルコール系溶媒、ケトン系溶媒、アミド系溶媒およびエステル系溶媒の群から選ばれた少なくとも1種の溶媒、を含有する膜形成用組成物。

請求項（抜粋）：

(A)下記一般式(1)で表される化合物および/または一般式(2)で表される化合物、ならびに、下記一般式(3)で表される化合物、その加水分解物および/またはその縮合物、R2 R3 Si(OR1 )2 (1)R2 Si(OR1 )3 (2)Si(OR1 )4 (3)(R1 〜R3 は、同一でも異なっていてもよく、それぞれ1価の有機基を示す。)(B)アルコキシシリル基を含むラジカル重合性モノマーを0.1〜10モル%含むモノマーを重合してなる(メタ)アクリレート系重合体、ならびに(C)アルコール系溶媒、ケトン系溶媒、アミド系溶媒おびエステル系溶媒の群から選ばれた少なくとも1種の溶媒を含有することを特徴とする膜形成用組成物。

IPC (4件)：

C09D183/04 , C09D133/04 , H01L 21/312 , H01L 21/316

FI (4件)：

C09D183/04 , C09D133/04 , H01L 21/312 C , H01L 21/316 G

Fターム (38件)：

4J038CG141 , 4J038CG142 , 4J038CH031 , 4J038CH032 , 4J038CH041 , 4J038CH042 , 4J038CL001 , 4J038CL002 , 4J038DL021 , 4J038DL022 , 4J038DL031 , 4J038DL032 , 4J038GA07 , 4J038GA12 , 4J038JA17 , 4J038JA26 , 4J038JA32 , 4J038JA55 , 4J038JA62 , 4J038JB12 , 4J038JB27 , 4J038JB30 , 4J038JB37 , 4J038JC31 , 4J038JC32 , 4J038KA03 , 4J038KA06 , 4J038MA07 , 4J038MA09 , 4J038NA07 , 4J038NA17 , 4J038PA19 , 5F058AA04 , 5F058AA10 , 5F058AC03 , 5F058AG01 , 5F058AH01 , 5F058AH02

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