特許
J-GLOBAL ID:200903037734120614
化学機械研磨用微粒子およびその製造方法ならびにこれを用いた研磨方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
小池 晃 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-139989
公開番号(公開出願番号):特開平8-003540
出願日: 1994年06月22日
公開日(公表日): 1996年01月09日
要約:
【要約】【構成】 金属-酸素原子間結合を有する有機金属化合物を乳化重合させて、相対的に硬度の小さい金属酸化物系化合物の微粒子を形成した後、この周囲に同様にして相対的に硬度の大きい金属酸化物系化合物を生成させることにより、硬度が最適化された化学機械研磨用微粒子を製造する。なお、この化学機械研磨用微粒子は、粒度分布が平均粒度±50%以内に抑えられ、形状が略真球状である。そして、この化学機械研磨用微粒子を含有するスラリーを用いて基板の化学機械研磨を行い、該基板の平坦化を行う。【効果】 粒径が均一で、形状が略真球状であり、さらに、硬度も最適化された化学機械研磨用微粒子が製造できるため、これを用いて研磨を行うと、基板の被研磨面へ物理的損傷を与えない。
請求項(抜粋):
少なくとも1種類の金属酸化物系化合物より構成されてなり、粒度分布が平均粒度±50%以内に抑えられ、形状が略真球状であることを特徴とする化学機械研磨用微粒子。
IPC (4件):
C09K 3/14 550
, B24B 37/00
, H01L 21/304 321
, H01L 21/304
引用特許:
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