特許

J-GLOBAL ID：200903037746095933

コンビネーションマスク

発明者： 木村 幹 ,  茂木 正
出願人/特許権者： 東京プロセスサービス株式会社
代理人 (1件)： 志賀 正武 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-203908
公開番号（公開出願番号）：特開2003-011537
出願日： 2001年07月04日
公開日（公表日）： 2003年01月15日
要約：

【要約】【課題】 スクリーン全体に平均的に張力を導入することで、スクリーンに形成される画像の精度を向上させることができるコンビネーションマスクの提供。【解決手段】 四角形状に形成された版枠材11の内側に緊張した状態で保持される支持シート21と、支持シート21の中央部に貼り付けられるとともに画像が形成される画像形成部34を有するスクリーン31とを有し、支持シート21のスクリーン31との貼付部32より内側部分が切り抜かれて構成されるコンビネーションマスクにおいて、スクリーン31が五角形以上の多角形形状をなしている。

請求項（抜粋）：

四つの辺部を有する四角形状に形成された版枠材の内側に緊張した状態で保持される支持シートと、該支持シートの中央部に貼り付けられるとともに画像が形成される画像形成部を有するスクリーンとを有し、前記支持シートの前記スクリーンとの貼付部より内側部分が切り抜かれて構成されるコンビネーションマスクにおいて、前記スクリーンは、五角形以上の多角形形状をなすことを特徴とするコンビネーションマスク。

Fターム (6件)：

2H114AB05 ,  2H114DA56 ,  2H114DA76 ,  2H114EA01 ,  2H114EA05 ,  2H114GA11

引用特許：

審査官引用 (1件)

• コンビネーションマスク
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-196796   出願人：東京プロセスサービス株式会社