特許
J-GLOBAL ID：200903037747411332
微粒子付着抑制方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 明夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-243175
公開番号（公開出願番号）：特開平6-097142
出願日： 1992年09月11日
公開日（公表日）： 1994年04月08日
要約：
【要約】【目的】 半導体ウエハの洗浄プロセス中における溶液内の金属、合金、セラミックス微粒子のウエハ付着を防止する。【構成】 溶液内の微粒子と基板間の立体反発力を制御できる物質を該溶液中に添加することにより、微粒子の基板付着を防止、低減する。
請求項（抜粋）：
洗浄溶液中の微粒子の基板付着を防止あるいは低減する微粒子付着抑制方法において、該溶液中に立体反発力を制御できる物質を10~7〜10~3mol/lの濃度範囲で添加するようにしたことを特徴とする微粒子付着抑制方法。
IPC (2件)：
H01L 21/304 341
, C11D 7/50
