特許

J-GLOBAL ID：200903037755667095

半導体ウェハ検査装置及び画像検出方法及び半導体装置

発明者： 坂田 和則
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (3件)： 上柳 雅誉 ,  藤綱 英吉 ,  須澤 修
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-127307
公開番号（公開出願番号）：特開2004-333227
出願日： 2003年05月02日
公開日（公表日）： 2004年11月25日
要約：

【課題】ウェハ上の所望のパターンをノイズ無しに検出または認識することのできる半導体ウェハ検査装置及び画像検出方法及びその利用を経て形成された半導体装置を提供する。【解決手段】広帯域光源12は、光学系13を介して半導体ウェハ10に広帯域光Linを照射する。フィルタ機構14は、カラーフィルタ141〜143を含み、検査定領域の反射光Lreを3原色(R,G,B)の各波長帯に分ける。信号処理部15は、分離した各波長帯の信号をディジタル化する。比較演算機構16はバッファメモリを含み、信号処理部15で得た各波長帯のデータを蓄積すると共に、それぞれ同じ位置関係のデータどうしを逐次比較していき、一致した同一データのみを取得画像パターンのデータとして検出する。出力部17は、最終的には取得画像パターンのデータに応じたパターンを図形化しモニタで表示する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

半導体ウェハ上の検査領域に広帯域光を照射し反射光を得る照明光学系と、 前記検査定領域の反射光を3種類以上の各波長帯に分けて出力するフィルタ機構と、 前記各波長帯の信号をディジタル化する信号処理部と、 前記信号処理部で得た各波長帯のデータどうしを比較し、同一データを取得画像パターンのデータとして検出する比較演算機構と、 少なくとも前記取得画像パターンに関する出力部と、 を具備したことを特徴とする半導体ウェハ検査装置。

IPC (4件)：

G01N21/956 ,  G01B11/24 ,  G01B11/30 ,  H01L21/66

FI (5件)：

G01N21/956 A ,  G01B11/30 A ,  H01L21/66 J ,  G01B11/24 K ,  G01B11/24 F

Fターム (49件)：

2F065AA49 ,  2F065AA56 ,  2F065BB02 ,  2F065CC19 ,  2F065DD04 ,  2F065FF42 ,  2F065FF67 ,  2F065GG02 ,  2F065GG03 ,  2F065GG23 ,  2F065GG24 ,  2F065HH13 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ09 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL22 ,  2F065MM02 ,  2F065NN02 ,  2F065NN20 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ03 ,  2F065QQ24 ,  2F065RR02 ,  2F065SS02 ,  2F065SS13 ,  2G051AA51 ,  2G051AB02 ,  2G051BA08 ,  2G051BA20 ,  2G051CA03 ,  2G051CA04 ,  2G051CC07 ,  2G051DA07 ,  2G051EA12 ,  2G051EA14 ,  2G051EA17 ,  2G051EA23 ,  2G051FA10 ,  4M106AA01 ,  4M106CA39 ,  4M106DB02 ,  4M106DB03 ,  4M106DB07 ,  4M106DB13 ,  4M106DB15 ,  4M106DJ17 ,  4M106DJ18 ,  4M106DJ20 ,  4M106DJ21