特許
J-GLOBAL ID：200903037758379473
窒化アルミニウム薄膜の作製方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-088172
公開番号（公開出願番号）：特開平5-255848
出願日： 1992年03月12日
公開日（公表日）： 1993年10月05日
要約：
【要約】【目的】 窒化アルミニウム薄膜材料を高速・低温にて形成する方法を提案する。【構成】 高純度アルミニウム基板をターゲット材料に使用した、窒化アルミニウム薄膜を作成目的とする反応性スパッタリング成膜技術において、ハロゲン化窒素および水素および希ガスによるプラズマを反応手段として用いることにより、高純度窒化アルミニウム薄膜を高速かつ低温にて成膜する成膜技術。
請求項（抜粋）：
純アルミニウム材料をターゲットとし、プラズマをその活性化手段とする反応性スパッタリング法による窒化アルミニウム薄膜の作製において、プラズマ原料ガスの全てもしくは一部に窒素のハロゲン系化合物気体を用いて、ターゲット金属の分解または再結合反応を生じせしめることを特徴とする窒化アルミニウム薄膜の作製方法
IPC (4件)：
C23C 14/34
, C23C 14/06
, C30B 25/06
, C30B 29/38
