特許
J-GLOBAL ID：200903037765458508
投影光学系および画像形成装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
平田 忠雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-348317
公開番号（公開出願番号）：特開平11-174320
出願日： 1997年12月17日
公開日（公表日）： 1999年07月02日
要約：
【要約】【課題】 投影面に形成される光スポットの密度を高め、画質向上を可能とした投影光学系および画像形成装置を提供する。【解決手段】 半導体レーザアレイ2は、複数のレーザビームを光軸方向Zに平行に出射する。半導体レーザアレイ2からの各レーザビームは、結像レンズ系4の横倍率だけ拡大されて変倍光学系5に入射する。変倍光学系5に入射した各レーザビームは、変倍光学系5の第1ミラー50で反射し、その反射光は第2ミラー51で反射する。第2ミラー51で反射した反射光は再び第1ミラー50で反射し、さらに第2ミラー51で反射した後、感光体ドラム3上に投影し結像される。感光体ドラム3上には、主走査方向Xに長い楕円状の複数の光スポットが形成され、画像信号に応じた静電潜像が形成される。
請求項（抜粋）：
光源からの出射光を投影面に投影し結像させる結像レンズ系と、前記結像レンズ系と前記投影面との間に配置され、前記結像レンズ系からの入射光を縦方向と横方向とで異なる倍率により拡大あるいは縮小して前記投影面上に前記縦方向あるいは前記横方向に長い楕円状の光スポットを形成する変倍光学系とを備えたことを特徴とする投影光学系。
IPC (4件)：
G02B 13/24
, B41J 2/44
, G02B 13/12
, G02B 27/18
G02B 13/24
, G02B 13/12
, G02B 27/18 Z
, B41J 3/00 D
