特許
J-GLOBAL ID：200903037767437141
回転式コンプレッサ用ベーンの物理蒸着膜形成方法および装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石川 泰男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-313156
公開番号（公開出願番号）：特開平9-157844
出願日： 1995年11月30日
公開日（公表日）： 1997年06月17日
要約：
【要約】【課題】 一度に多数の回転式コンプレッサ用ベーンの表面に膜厚の均一性が高いPVD膜を形成することにより回転式コンプレッサ用ベーンの耐磨耗性を高める。【解決手段】 複数の回転式コンプレッサ用ベーン3を複数の空隙50が形成されているとともに両端が開口している筒状治具15の外周部に放射状に取り付け、この筒状治具15を自転させながらターゲット12の周りを公転させつつ移動させて真空蒸着膜形成処理を行う。
請求項（抜粋）：
複数の回転式コンプレッサ用ベーンを複数の空隙が形成されているとともに両端が開口している筒状治具の外周部に放射状に取り付け、この筒状治具を自転させながら蒸着源の周りを公転およびさせつつ移動させて真空蒸着膜形成処理を行うことにより、各ベーンの表面に物理蒸着膜を形成することを特徴とする回転式コンプレッサ用ベーンの物理蒸着膜形成方法。
IPC (4件)：
C23C 14/50
, C23C 14/24
, C23C 14/32
, F04C 18/356
C23C 14/50 H
, C23C 14/24 J
, C23C 14/32 Z
, F04C 18/356 P
