特許

J-GLOBAL ID：200903037779803763

平面型磁気素子の製造方法

発明者： 井上 哲夫 ,  佐藤 敏郎 ,  澤邊 厚仁 ,  富田 宏 ,  溝口 徹彦
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-071986
公開番号（公開出願番号）：特開平6-077072
出願日： 1992年03月30日
公開日（公表日）： 1994年03月18日
要約：

【要約】【目的】コイル導体間スペースの幅が小さく、かつ十分な厚さのコイル導体を有する高性能の平面型磁気素子を非常に簡単なプロセスで製造できる方法を提供する。【構成】磁性膜3上にコイル導体間スペースを構成する絶縁膜4を形成する工程と、この絶縁膜4をコイル導体間スペースの形状にパターニングする工程と、この絶縁膜4のパターンを導体膜が選択的に成長できるように表面改質する工程と、この絶縁膜4のパターンの間隙に選択的に導体膜5を充填してコイル導体を形成する工程と、全面に絶縁膜6を形成する工程と、この絶縁膜6上に磁性膜7を形成する工程とを有する。

請求項（抜粋）：

磁性膜上にコイル導体間スペースを構成する絶縁膜を形成する工程と、この絶縁膜をコイル導体間スペースの形状にパターニングする工程と、この絶縁膜パターンを導体膜が選択的に成長できるように表面改質する工程と、この絶縁膜パターンの間隙に選択的に導体膜を充填してコイル導体を形成する工程と、全面に絶縁膜を形成する工程と、この絶縁膜上に磁性膜を形成する工程とを具備したことを特徴とする平面型磁気素子の製造方法。

IPC (3件)：

H01F 41/04 ,  H01F 17/00 ,  H01F 41/18