特許
J-GLOBAL ID：200903037799833944
ペリクル膜付きレチクル及びその異物除去方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
早瀬 憲一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-130237
公開番号（公開出願番号）：特開平5-297572
出願日： 1992年04月22日
公開日（公表日）： 1993年11月12日
要約：
【要約】【目的】 ペリクル膜付きのまま、ペリクル膜-レチクル間空間に存在する異物をマスクパターンの転写領域から除去することのできるペリクル膜付きレチクルを得る。【構成】 ペリクル膜3を支持しているペリクル膜支持枠4aの相対向する位置に、開閉弁5a,5bにより開閉可能な通気口6a,6bを設け、該通気口からガス7を流してマスクパターン2に付着した異物を除去できるようにした。【効果】 異物の除去したあと再度ペリクル膜を付け直す煩雑さを解消できる。
請求項（抜粋）：
ペリクル膜と、該ペリクル膜を支持する支持枠とを備えたペリクル膜付きレチクルにおいて、そのペリクル膜を支持する支持枠は、通気口と、その通気口を開閉する開閉弁とをそれぞれ複数個有することを特徴とするペリクル膜付きレチクル。
IPC (2件)：
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