特許
J-GLOBAL ID:200903037806611502
表面処理装置及びその方法と再生装置及びその方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
青山 葆 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-061560
公開番号(公開出願番号):特開2000-254863
出願日: 1999年03月09日
公開日(公表日): 2000年09月19日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】 金属、ガラスからなる粒子に代えて、溶解性の材料を用いた新たな表面処理装置、及びこの材料を再生する再生装置を提供する。【解決手段】 表面処理装置は、溶媒と溶質とを含む処理材料を収容するために用意された第1と第2の容器86、104と、第1の容器に収容されている処理材料を加熱して不飽和溶液を得る加熱器88と、第1の容器から第2の容器に不飽和溶液を送る送液管92と、第2の容器に収容されている処理材料を冷却し、溶質の成長結晶を含む過飽和溶液を得る冷却器106と、過飽和溶液をワーク56に当てるノズル60と、ワークに当てられた過飽和溶液を回収する回収容器82と、回収手段で回収した過飽和溶液を第1の容器に送る送液管84を有する。
請求項(抜粋):
溶媒に溶質を溶解させて不飽和溶液を得る手段と、上記不飽和溶液を冷却し、上記溶質の結晶を含む過飽和溶液を得る手段と、上記過飽和溶液をワークに当て、該ワークの表面を処理する手段とを備えた表面処理装置。
IPC (3件):
B24C 1/00
, B24C 7/00
, B24C 9/00
FI (4件):
B24C 1/00 Z
, B24C 7/00 D
, B24C 9/00 E
, B24C 9/00 F
引用特許: