特許

J-GLOBAL ID：200903037816010086

光束分割素子

発明者： 飯塚 隆之 ,  野口 正人
出願人/特許権者： 旭光学工業株式会社
代理人 (1件)： 松岡 修平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-199297
公開番号（公開出願番号）：特開平10-078504
出願日： 1997年07月09日
公開日（公表日）： 1998年03月24日
要約：

【要約】【課題】 従来の光束分割素子は、回折効率が前者の実施例で70%〜85%、後者の実施例で81%と低い値に止まっており、入射光の強度を十分有効に利用することができず、光エネルギーのロスが大きいという課題がある。【解決手段】 帯状の基準位相パターンP1,P2,...を、そのピッチ内で与える位相差が非線形に変化するよう、かつ、ピッチ内の何れの位置を中心にしても与える位相差が非対称となるよう形成し、隣接する基準位相パターンの間でΔPの位相ギャップを有し、この位相ギャップΔPが、0.7π<|ΔP|<1.2πの条件を満たすよう設定されている。

請求項（抜粋）：

帯状の基準位相パターンが基板上に等ピッチで多数並列して形成され、入射光を回折させて複数の光束に分割するグレーティング型の光束分割素子において、前記基準位相パターンは、前記ピッチ内で与える位相差が非線形に変化するよう、かつ、前記ピッチ内の何れの位置を中心にしても与える位相差が非対称となるよう形成され、隣接する前記基準位相パターンの間でΔPの位相ギャップを有し、該位相ギャップΔPが、0.7π<|ΔP|<1.2πの条件を満たすことを特徴とする光束分割素子。

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 偶数多ビーム発生素子及び光記録装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-188408   出願人：日立工機株式会社
• 特開平3-257401
  
• 特開昭63-150984
  
• 特開昭63-068802