特許

J-GLOBAL ID：200903037846426104

レーザ描画装置

発明者： 恩田 一 ,  小野 祐志郎 ,  石田 敏治
出願人/特許権者： エヌティエヌ株式会社
代理人 (1件)： 深見 久郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-328817
公開番号（公開出願番号）：特開平8-187582
出願日： 1994年12月28日
公開日（公表日）： 1996年07月23日
要約：

【要約】【目的】 レーザ光量をフィードフォアード的に制御して安定した描画線幅を得て良好な描画を行なうことができるようなレーザ描画装置を提供する。【構成】 コントローラ200のメモリ202には、第1のテーブルおよび第2のテーブル13,14の移動速度パターンに関係づけられたレーザ光量のパターンが記憶されており、テーブルドライバ204および位置指令カウンタ203にも位置指令が与えられて、メモリ202に記憶されたパターンを読出し、読出されたパターンがD/A変換器205に与えられてレーザ光量のパターン出力がパワーサーボ回路7に与えられる。パワーサーボ回路7は、フィードフォアード的にパワーコントロール用AOMを制御することで、光学ヘッド12に与えられるレーザ光量が制御されて、フィードバック制御のような検出遅れが生じることなく、安定した描画線幅が得られて良好な描画となる。

請求項（抜粋）：

レーザ光で被加工物を描画するレーザ描画装置であって、その上に設けられた前記被加工物をXY平面に移動可能なXYテーブルと、前記被加工物にレーザ光を出力するためのレーザ出力手段と、前記レーザ出力手段が出力すべきレーザ光の光量パターンを記憶した記憶手段と、前記XYテーブルの移動時に、前記記憶手段が記憶したレーザ光の光量パターンを読出すとともに、その光量パターンで前記レーザ出力手段がレーザ光を出力するように前記レーザ出力手段を制御する制御手段とを備えた、レーザ描画装置。