特許
J-GLOBAL ID：200903037854900079
画素密度変更方法および画像形成装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
武 顕次郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-075794
公開番号（公開出願番号）：特開平10-271291
出願日： 1997年03月27日
公開日（公表日）： 1998年10月09日
要約：
【要約】【課題】 レーザプリンタでXYプロッタなどのGLをエミュレートした場合に、線幅を忠実に再現できるようにする。【解決手段】 半導体レーザ1からのレーザ光を走査して感光体5上に照射するとともに、ポリゴンミラー6の回転数と画像クロックを変更させて画像密度を変更する制御部23を有するプリンタ21において、制御部23はXYプロッタなどのGLをエミュートするとき、プリンタ21の画素密度を254dpiの整数倍の画素密度に変更するように制御する。
請求項（抜粋）：
第1の画像形成装置の画素密度を当該第1の画像形成装置とは異なるグラフィック言語を使用する第2の画像形成装置の画素密度に変更する画素密度変更方法において、前記第2の画像形成装置のグラフィック言語をエミュートするとき、前記第2の画像形成装置の1ドットの幅が、前記第1の画像形成装置の1ドットの幅に対して整数倍の関係になるように前記第1の画像形成装置の画素密度を変更することを特徴とする画素密度変更方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H04N 1/04 104 Z
, B41J 3/00 D
