特許

J-GLOBAL ID：200903037855438743

液晶表示装置の製造方法

発明者： 升谷 雄一
出願人/特許権者： 三菱電機株式会社
代理人 (1件)： 大岩 増雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-167994
公開番号（公開出願番号）：特開2000-002886
出願日： 1998年06月16日
公開日（公表日）： 2000年01月07日
要約：

【要約】【課題】 液晶表示装置の製造における写真製版工程の回数を低減し、スループットの向上、製造コストの低減を図る。【解決手段】 薄膜トランジスタが形成された基板上に、保護膜12を窒化シリコン、酸化シリコン等の透明絶縁膜により成膜し、さらに、端子部を除く領域にポリイミド等よりなる配向膜13をスクリーン印刷または転写等の方法で形成する。次に、配向膜13をマスクとして、端子部上の保護膜12のエッチングを、例えばフッ酸等の薬液を用いたウエットエッチングにより行う。その後、そのままラビングを行い、対向基板と貼り合わせ、液晶を注入して液晶表示装置を製造する。この方法によれば、従来、保護膜形成のために行っていたレジスト塗布、露光及び現像等の写真製版工程とレジスト除去工程を削減することができ、液晶表示装置製造のスループットが向上し、製造コストの低減が図られる。

請求項（抜粋）：

薄膜トランジスタを含むスイッチング素子及びこのスイッチング素子を経てそれぞれ制御される表示素子を有する薄膜トランジスタアレイ基板と、この薄膜トランジスタアレイ基板との間に液晶を挟持する対向基板を備えた液晶表示装置の製造方法であって、上記薄膜トランジスタが形成された基板上に、透明絶縁膜よりなる保護膜を成膜する工程、上記基板周辺部に設けられた端子部を除く領域に、ポリイミド等よりなる配向膜をスクリーン印刷または転写等の方法で形成する工程、上記配向膜をマスクとして上記端子部上の上記保護膜のエッチングを行う工程を含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。

IPC (5件)：

G02F 1/136 500 ,  C23F 4/00 ,  G02F 1/1333 505 ,  G02F 1/1337 525 ,  C08G 73/10

FI (5件)：

G02F 1/136 500 ,  C23F 4/00 ,  G02F 1/1333 505 ,  G02F 1/1337 525 ,  C08G 73/10

Fターム (36件)：

2H090HA03 ,  2H090HB08Y ,  2H090HC06 ,  2H090HC12 ,  2H090HD05 ,  2H090LA04 ,  2H092JA36 ,  2H092JA39 ,  2H092JA40 ,  2H092JA44 ,  2H092JB14 ,  2H092KA05 ,  2H092KA10 ,  2H092KA12 ,  2H092KA18 ,  2H092KB04 ,  2H092KB24 ,  2H092MA10 ,  2H092MA18 ,  2H092MA19 ,  2H092MA37 ,  2H092MA41 ,  2H092NA25 ,  2H092NA27 ,  2H092PA02 ,  4J043ZB23 ,  4K057DA20 ,  4K057DB11 ,  4K057DB15 ,  4K057DE02 ,  4K057DE06 ,  4K057DE08 ,  4K057DN01 ,  4K057WE04 ,  4K057WE07 ,  4K057WN01