特許
J-GLOBAL ID:200903037872651965

電子部品製造装置およびその使用のための方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 大貫 進介 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-040385
公開番号(公開出願番号):特開平11-290609
出願日: 1999年02月18日
公開日(公表日): 1999年10月26日
要約:
【要約】【課題】 電子部品の製造に用いられる溶液から炭素系分子のような有機物質を除去する濾過方法を提供する。【解決手段】 電気めっきシステム(10)は、入力ポート(50)および出力ポート(51)によって濾過システム(20)に結合されためっきタンク(11)を有する。めっき溶液(14)が濾過システム(20)を通過する際に、炭素系分子が濾過材(63)内に捕獲される。濾過システム(20)は、電子部品(100)の製造において、種々の用途に使用可能である。これらの用途には、めっき溶液,エッチング溶液,およびフォトレジスト溶液の濾過が含まれる。
請求項(抜粋):
電子部品(100)の形成方法であって:めっき溶液(14)を貯蔵するめっきタンク(11)を用意する段階;入力ポート(50),出力ポート(51),および高分子化合物から成る濾過材(63)を有する濾過システム(20)を用意する段階;前記電子部品(100)を前記めっき溶液(14)内に浸漬する段階;前記めっき溶液(14)を前記めっきタンク(11)から前記濾過システム(20)の前記入力ポート(50)に送出する段階;前記めっき溶液(14)からの炭素系分子を前記濾過材(63)内に捕獲する段階;および前記めっき溶液(14)を、前記濾過システム(20)の前記出力ポート(51)から排出する段階;から成ることを特徴とする方法。
IPC (4件):
B01D 15/00 ,  B01D 39/16 ,  C02F 1/28 ,  H01L 21/288
FI (4件):
B01D 15/00 P ,  B01D 39/16 Z ,  C02F 1/28 Z ,  H01L 21/288 Z

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