特許
J-GLOBAL ID：200903037874493283
磁気ディスク用基板のテクスチャー方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
古谷 馨 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-253358
公開番号（公開出願番号）：特開平9-097424
出願日： 1995年09月29日
公開日（公表日）： 1997年04月08日
要約：
【要約】【課題】 カーボン基板に均質なテクスチャー処理を簡易に施すことができるゾーンテクスチャー方法を提供する。【解決手段】 表面研磨された密度1.4〜1.6g/cm3 の磁気ディスク用ガラス状カーボン基板の一部をマスキングし、電解液中で陽極酸化処理または電解エッチング処理して、前記基板のマスキングされていない部分の表面を粗面化する。
請求項（抜粋）：
表面研磨された密度1.4〜1.6cm3 のガラス状カーボン基板の一部をマスキングした後、該基板を電解液中で陽極酸化処理または電解エッチング処理することにより、前記基板のマスキングされていない表面を粗面化することを特徴とする磁気ディスク用基板のテクスチャー方法。
IPC (4件)：
G11B 5/84
, C25D 11/02
, C25F 3/00
, G11B 5/82
G11B 5/84 A
, C25D 11/02
, C25F 3/00 B
, G11B 5/82
