特許

J-GLOBAL ID：200903037879829387

基板露光装置

発明者： 小 塚 敏 幸 ,  吉 竹 弘 ,  児 玉 正 吉
出願人/特許権者： 日立電子エンジニアリング株式会社
代理人 (1件)： 西山 春之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-308523
公開番号（公開出願番号）：特開平9-129548
出願日： 1995年11月02日
公開日（公表日）： 1997年05月16日
要約：

【要約】【課題】 基板露光装置において、ガラス基板の大判化と共に大形サイズとなったマスクがたわんだ場合でも上記ガラス基板へのパターン焼付けの解像度を均一に保つことを可能とする。【解決手段】 ガラス基板3を上面に載せて保持すると共にマスク1の下面と上記ガラス基板3の上面との間に所定のギャップgをあけて位置合わせをする基板チャック4′を、下方にたわみ得る材質又は形状に形成し、マスクホルダ2に支持されたマスク1がその自重により下方にたわむのと同様に上記基板チャック4′が所定量だけ下方にたわむようにしたものである。これにより、基板チャック4′の上面に保持されたガラス基板3も基板チャック4′のたわんだ形状にならって同様にたわませることができる。従って、上記マスク1のたわみ量に対応してガラス基板3も同等のたわみ量となり、上記マスク1の下面とガラス基板3の上面との間のギャップgは、どの部分においても略一定となる。

請求項（抜粋）：

配線パターンが形成されたマスクをマスクホルダの上端面で支持し、このマスクの下方にはガラス基板を基板チャックの上面に載せて保持すると共に上記マスク下面とガラス基板の上面との間に所定のギャップをあけて位置合わせをし、上記マスクの上方から露光用の光を照射して該マスクに形成された配線パターンを上記ガラス基板に焼き付ける基板露光装置において、上記基板チャックは下方にたわみ得る材質又は形状に形成し、上記マスクホルダに支持されたマスクがその自重により下方にたわむのと同様に上記基板チャックが所定量だけ下方にたわむようにしたことを特徴とする基板露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 511 ,  G03F 7/20 521