特許

J-GLOBAL ID：200903037881474243

高分子複合材料の成形方法および磁場配向プレス成形装置

発明者： 飛田 雅之
出願人/特許権者： ポリマテック株式会社
代理人 (1件)： 松田 省躬
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-318215
公開番号（公開出願番号）：特開2000-141505
出願日： 1998年11月09日
公開日（公表日）： 2000年05月23日
要約：

【要約】【課題】 高い熱伝導性や電気伝導性、誘電性などの特定の物理的性質を有する充填材に強磁性体を被覆した充填材や、磁性が弱い充填材を使用する場合でも、強磁性体を十分に配向させる。【解決手段】 磁性充填材と高分子材料を混合した高分子複合材料を、振動機構を備える成形金型内に充填し、磁場雰囲気で成形する。

請求項（抜粋）：

磁性充填材と高分子材料を混合した高分子複合材料を、振動機構を備える成形金型内に充填し、磁場雰囲気で成形することを特徴とする高分子複合材料の成形方法。

IPC (2件)：

B29C 70/58 ,  B29K505:00

Fターム (29件)：

4F205AA33 ,  4F205AA45 ,  4F205AB13 ,  4F205AC05 ,  4F205AD03 ,  4F205AD05 ,  4F205AD16 ,  4F205AG01 ,  4F205AJ11 ,  4F205AM29 ,  4F205HA08 ,  4F205HA17 ,  4F205HA25 ,  4F205HA32 ,  4F205HA35 ,  4F205HA36 ,  4F205HA39 ,  4F205HA42 ,  4F205HB01 ,  4F205HC17 ,  4F205HF01 ,  4F205HF23 ,  4F205HF30 ,  4F205HK04 ,  4F205HK05 ,  4F205HK27 ,  4F205HK28 ,  4F205HK31 ,  4F205HM07

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭63-111038
  
• 特開昭63-295751
  
• 特開昭63-111039