特許

J-GLOBAL ID：200903037917793499

蛍光X線分析装置

発明者： 桑原 章二
出願人/特許権者： 株式会社島津製作所
代理人 (1件)： 塩野入 章夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-345946
公開番号（公開出願番号）：特開2003-149182
出願日： 2001年11月12日
公開日（公表日）： 2003年05月21日
要約：

【要約】【課題】 複数の励起X線の試料面での照射位置の微小な位置合わせを容易とし、また、一つの蛍光X線分析装置によって100μm以下の微小部分について軽元素から重元素を分析する。【解決手段】 蛍光X線分析装置1は、連続X線を照射する第1の励起X線源2、及び特性一次X線を照射する少なくとも一つの第2の励起X線源3と試料ステージ10とを備え、試料ステージ10は、各励起X線源が照射する一次X線の試料面での照射位置と試料ステージの原点に対するオフセット量を各励起X線源毎に位置補正する。オフセット量は、各励起X線源毎に一次X線の試料面での照射位置と試料ステージの原点との位置ずれを予め求め記憶しておき、測定時において使用する励起X線源に対応するオフセット量を読み出し、オフセット量を用いて照射位置と試料ステージの原点が一致するように試料ステージの位置補正を行う。

請求項（抜粋）：

少なくとも二つの励起X線源と、試料ステージを備え、前記試料ステージは、前記各励起X線源が照射する一次X線の試料面での照射位置と試料ステージの原点に対するオフセット量を、各励起X線源毎に位置補正する、蛍光X線分析装置。

IPC (2件)：

G01N 23/223 ,  G21K 5/02

FI (3件)：

G01N 23/223 ,  G21K 5/02 W ,  G21K 5/02 X

Fターム (13件)：

2G001AA01 ,  2G001AA09 ,  2G001AA10 ,  2G001BA04 ,  2G001CA01 ,  2G001FA01 ,  2G001FA08 ,  2G001FA09 ,  2G001GA01 ,  2G001HA13 ,  2G001KA01 ,  2G001NA16 ,  2G001QA01