特許

J-GLOBAL ID：200903037919522549

塗布装置、吐出手段及び塗布方法

発明者： 向井 喜一郎 ,  佐藤 光 ,  添田 勝之
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-001906
公開番号（公開出願番号）：特開2000-197842
出願日： 1999年01月07日
公開日（公表日）： 2000年07月18日
要約：

【要約】【課題】 本発明は、レジスト等の連続膜を形成する塗布装置、吐出手段及び塗布方法に関する。【解決手段】 基板21表面に連続膜を形成する連続膜の塗布装置20において、基板21を保持する保持テーブル22と、保持テーブル22を回転駆動させる駆動モータ25と、内部に塗布液を蓄える貯溜室27を具備し、基板21に対向する対向部位に貯溜室27内部に蓄えられた塗布液を噴射するオリフィス孔33が複数形成された吐出手段26と、を具備することを特徴としている。

請求項（抜粋）：

基板表面に膜を形成する塗布装置において、上記基板を保持する保持手段と、内部に塗布液を蓄え、上記基板と対向する対向部位に上記塗布液を吐出させる複数の吐出孔が形成された吐出手段と、上記塗布液に微小振動を与えて吐出させる微小振動手段と、上記保持手段と上記吐出手段を相対的に駆動させる駆動手段と、を具備することを特徴とする塗布装置。

IPC (6件)：

B05C 5/00 101 ,  B05B 1/14 ,  B05B 3/14 ,  B05C 11/08 ,  B05D 1/40 ,  H01L 21/027

FI (7件)：

B05C 5/00 101 ,  B05B 1/14 Z ,  B05B 3/14 ,  B05C 11/08 ,  B05D 1/40 A ,  H01L 21/30 564 C ,  H01L 21/30 564 D

Fターム (25件)：

4D075AC64 ,  4D075AC79 ,  4D075AC84 ,  4D075DA08 ,  4D075DC22 ,  4F033AA14 ,  4F033BA03 ,  4F033DA05 ,  4F033EA01 ,  4F033JA03 ,  4F033JA06 ,  4F033LA13 ,  4F033NA01 ,  4F033PA11 ,  4F033PB25 ,  4F033PD01 ,  4F033PD06 ,  4F041AA06 ,  4F041AB01 ,  4F041BA13 ,  4F042AA07 ,  4F042EB18 ,  4F042EB19 ,  5F046JA01 ,  5F046JA04